అధిక స్వచ్ఛత 99.95% అణుశక్తి పరిశ్రమ కోసం మంచి ప్లాస్టిసిటీ రాపిడి నిరోధకత టాంటలమ్ రాడ్/బార్ టాంటలమ్ ఉత్పత్తులు
ఉత్పత్తి పారామితులు
| ఉత్పత్తి పేరు | 99.95% టాంటాలమ్ ఇంగట్ బార్ కొనుగోలుదారులు ro5400 టాంటాలమ్ ధర |
| స్వచ్ఛత | 99.95% కనిష్టంగా |
| గ్రేడ్ | R05200, R05400, R05252, RO5255, R05240 |
| ప్రామాణికం | ASTM B365 |
| పరిమాణం | వ్యాసం(1~25)xగరిష్టంగా3000మిమీ |
| పరిస్థితి | 1. హాట్-రోల్డ్/కోల్డ్-రోల్డ్; 2. ఆల్కలైన్ క్లీనింగ్; 3. ఎలక్ట్రోలైటిక్ పాలిష్; 4. మెషీనింగ్, గ్రైండింగ్; 5. స్ట్రెస్ రిలీఫ్ అనీలింగ్. |
| యాంత్రిక లక్షణం (అనీల్డ్) | గ్రేడ్; కనిష్ట తన్యత బలం; కనిష్ట దిగుబడి బలం; కనిష్ట సాగుదల, % |
| (UNS), psi (MPa), psi(MPa)(2%), (1 అంగుళం గేజ్ పొడవు) | |
| (RO5200, RO5400), 30000 (207), 20000 (138), 20 | |
| Ta-10W (RO5255), 70000 (482), 60000 (414),15 | |
| Ta-2.5W (RO5252), 40000 (276), 30000 (207), 20 | |
| Ta-40Nb (RO5240), 35000 (241), 20000 (138), 25 | |
| అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తులు | డ్రాయింగ్ ప్రకారం, ప్రత్యేక అవసరాలను సరఫరాదారు మరియు కొనుగోలుదారు అంగీకరించాలి. |
స్పెసిఫికేషన్
| వ్యాసం | వ్యాస సహనం | పొడవు | సహనం | |||
| ఫోర్జింగ్ రాడ్ | ఎక్స్ట్రూడెడ్ రాడ్లు | రోలింగ్ రాడ్ | గ్రౌండ్ రాడ్ | |||
| 3.0-4.5 | ±0.05 | - | ±0.05 | - | 500-1500 | + 5 |
| >4.5-6.5 | ±0.10 | - | ±0.10 | - | 500-1500 | + 5 |
| 6.5-10.0 | ±0.15 | - | ±0.15 | - | 400-1500 | + 5 |
| >10-16 | ±0.20 | - | ±0.20 | - | 300-1200 | + 5 |
| 16-18 | ±1.0 | - | - | ±0.30 | 200-2000 | + 20 |
| >18-25 | ±1.5 | ±1.0 | - | ±0.40 | 200-2000 | + 20 |
| >25-40 | ±2.0 | ±1.5 | - | ±0.50 | 150-4000 | + 20 |
| >40-50 | ±2.5 | ±2.0 | - | ±0.60 | 100-3000 | + 20 |
| >50-65 | ±3.0 | ±2.0 | - | ±0.80 | 100-1500 | + 20 |
పట్టికⅠటాంటాలమ్ రాడ్ యొక్క రసాయన కూర్పు
| రసాయన శాస్త్రం ppm | ||||||||||||
| వివరణ | ప్రధాన భాగం | మలినాలు గరిష్టంగా | ||||||||||
| Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | O | C | H | N | |
| Ta1 | మిగిలినది | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | 150 | 40 | 15 | 20 |
| Ta2 | మిగిలినది | 800 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb3 | మిగిలినది | <35000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| TaNb20 | మిగిలినది | 170000- 230000 | 100 | 100 | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100 | 15 | 100 |
| Ta2.5W | మిగిలినది | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
| Ta10W | మిగిలినది | 400 | 50 | 30 | 20 | 110000 | 60 | 20 | 150 | 50 | 15 | 60 |
పట్టిక Ⅱ టాంటాలమ్ కడ్డీల వ్యాసంలో అనుమతించదగిన వైవిధ్యాలు
| వ్యాసం, అంగుళం (మి.మీ.) | సహనం, +/- అంగుళం (మిమీ) |
| 0.125~0.187 మినహాయించి (3.175~4.750) | 0.003 (0.076) |
| 0.187~0.375 మినహాయించి (4.750~9.525) | 0.004 (0.102) |
| 0.375~0.500 మినహాయించి (9.525~12.70) | 0.005 (0.127) |
| 0.500~0.625 మినహాయించి (12.70~15.88) | 0.007 (0.178) |
| 0.625~0.750 మినహాయించి (15.88~19.05) | 0.008 (0.203) |
| 0.750~1.000 మినహాయించి (19.05~25.40) | 0.010 (0.254) |
| 1.000~1.500 మినహాయించి (25.40~38.10) | 0.015 (0.381) |
| 1.500~2.000 మినహాయించి (38.10~50.80) | 0.020 (0.508) |
| 2.000~2.500 మినహాయించి (50.80~63.50) | 0.030 (0.762) |
అప్లికేషన్
కెపాసిటర్లు; శస్త్రచికిత్స ఇంప్లాంట్లు మరియు పరికరాలు; ఇంక్ జెట్ నాజిల్స్.
ప్రయోగశాల పరికరాలలో ఉపయోగిస్తారు.
ప్లాటినంకు ప్రత్యామ్నాయంగా ఉపయోగిస్తారు.
సూపర్ మిశ్రమ లోహాల తయారీలో మరియు ఎలక్ట్రాన్-బీమ్ ద్రవీకరణలో ఉపయోగిస్తారు.
సంబంధిత ఉత్పత్తులు
-
చైనా ఫ్యాక్టరీ సరఫరా 99.95% రుథేనియం లోహ శక్తి...
ఉత్పత్తి పారామితులు MF Ru CAS నం. 7440-18-8 EINECS నం. 231-127-1 స్వచ్ఛత 99.95% రంగు బూడిద స్థితి పొడి మోడల్ నం. A125 ప్యాకింగ్ డబుల్ యాంటీ-స్టాటిక్ లేయర్ బ్యాగులు లేదా మీ పరిమాణం ఆధారంగా బ్రాండ్ HW రుథేనియం నానోపార్టికల్స్ అప్లికేషన్ 1. అత్యంత సమర్థవంతమైన ఉత్ప్రేరకం. 2. ఘన ఆక్సైడ్ యొక్క క్యారియర్. 3. రుథేనియం నానోపార్టికల్స్ శాస్త్రీయ పరికరాల తయారీలో ఉపయోగించే పదార్థం. 4. రుథేనియం నానోపార్టికల్స్ ప్రధానంగా సహ...
-
అధిక స్వచ్ఛత గల 99.8% టైటానియం గ్రేడ్ 7 రౌండ్ల స్పుటర్...
ఉత్పత్తి పారామితులు ఉత్పత్తి పేరు PVD కోటింగ్ మెషిన్ కోసం టైటానియం టార్గెట్ గ్రేడ్ టైటానియం (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) మిశ్రమ లోహ టార్గెట్: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr మొదలైనవి మూలం బావోజీ నగరం, షాన్సీ ప్రావిన్స్, చైనా టైటానియం శాతం ≥99.5 (%) మలినాల శాతం <0.02 (%) సాంద్రత 4.51 లేదా 4.50 g/cm3 ప్రమాణం ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 పరిమాణం 1. గుండ్రని టార్గెట్: Ø30--2000mm, మందం 3.0mm--300mm; 2. ప్లేట్ టార్గెట్: పొడవు: 200-500mm వెడల్పు: 100-230mm మందం...
-
సేకరణ మూలకం పాలిష్ చేసిన ఉపరితలం Nb స్వచ్ఛమైన ...
ఉత్పత్తి పారామితులు ఉత్పత్తి పేరు శుద్ధ నియోబియం ఇంగట్ పదార్థం శుద్ధ నియోబియం మరియు నియోబియం మిశ్రమలోహం కొలతలు మీ అభ్యర్థన మేరకు గ్రేడ్ RO4200.RO4210,R04251,R04261 తయారీ విధానం కోల్డ్ రోల్డ్, హాట్ రోల్డ్, ఎక్స్ట్రూడెడ్ లక్షణం ద్రవీభవన స్థానం : 2468℃ బాష్పీభవన స్థానం : 4744℃ వినియోగం రసాయన, ఎలక్ట్రానిక్స్, విమానయాన మరియు ఏరోస్పేస్ రంగాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది ఉత్పత్తి లక్షణాలు అద్భుతమైన తుప్పు నిరోధకత వేడి ప్రభావానికి మంచి నిరోధకత...
-
ఫెర్రో వనాడియం
ఫెర్రోవనాడియం బ్రాండ్ యొక్క రసాయన కూర్పుల వివరణ (%) VC Si PS Al Mn ≤ FeV40-A 38.0~45.0 0.60 2.0 0.08 0.06 1.5 --- FeV40-B 38.0~45.0 0.80 3.0 0.15 0.10 2.0 --- FeV50-A 48.0~55.0 0.40 2.0 0.06 0.04 1.5 --- FeV50-B 48.0~55.0 0.60 2.5 0.10 0.05 2.0 --- FeV60-A 58.0~65.0 0.40 2.0 0.06 0.04 1.5 --- FeV60-B 58.0~65.0 ...
-
OEM అధిక స్వచ్ఛత 99.95% పాలిష్ చేసిన పలుచని టంగ్స్టన్ పలక...
ఉత్పత్తి పారామితులు బ్రాండ్ HSG ప్రమాణం ASTMB760-07;GB/T3875-83 గ్రేడ్ W1,W2,WAL1,WAL2 సాంద్రత 19.2g/cc స్వచ్ఛత ≥99.95% పరిమాణం మందం 0.05mm కనిష్టం*వెడల్పు 300mm గరిష్టం*పొడవు 1000mm గరిష్టం ఉపరితలం నలుపు/క్షార శుభ్రపరచడం/పాలిష్ చేయబడింది ద్రవీభవన స్థానం 3260C ప్రక్రియ హాట్ రోలింగ్ రసాయన కూర్పు రసాయన కూర్పు మలినాల శాతం ( ), ≤ Al Ca Fe Mg Mo Ni Si CNO మిగిలినది 0....
-
అధిక నాణ్యత గల సూపర్ కండక్టర్ నియోబియం సీమ్లెస్ ట్యూబ్...
ఉత్పత్తి పారామితులు ఉత్పత్తి పేరు పియర్సింగ్ ఆభరణాల కోసం పాలిష్ చేసిన స్వచ్ఛమైన నియోబియం సీమ్లెస్ ట్యూబ్ కిలోలు పదార్థాలు స్వచ్ఛమైన నియోబియం మరియు నియోబియం మిశ్రమం స్వచ్ఛత స్వచ్ఛమైన నియోబియం 99.95% కనిష్టం. గ్రేడ్ R04200, R04210, Nb1Zr (R04251 R04261), Nb10Zr, Nb-50Ti మొదలైనవి. ఆకారం ట్యూబ్/పైపు, గుండ్రం, చతురస్రం, బ్లాక్, క్యూబ్, ఇంగట్ మొదలైనవి. అనుకూలీకరించినవి ప్రమాణం ASTM B394 కొలతలు అనుకూలీకరించినవి అంగీకరించబడతాయి అప్లికేషన్ ఎలక్ట్రానిక్ పరిశ్రమ, ఉక్కు పరిశ్రమ, రసాయన పరిశ్రమ, ఆప్టిక్స్, రత్న పరిశ్రమ ...