అధిక స్వచ్ఛత 99.995% 4N5 ఇండియం కడ్డీలో
| స్వరూపం | వెండి-తెలుపు |
| పరిమాణం / బరువు | కడ్డీకి 500+/-50గ్రా |
| పరమాణు సూత్రం | In |
| పరమాణు బరువు | 8.37 mΩ సెం.మీ |
| ద్రవీభవన స్థానం | 156.61°C |
| మరుగు స్థానము | 2060°C |
| సాపేక్ష సాంద్రత | d7.30 |
| CAS నం. | 7440-74-6 |
| EINECS నం. | 231-180-0 |
| రసాయన సమాచారం | |
| In | 5N |
| Cu | 0.4 |
| Ag | 0.5 |
| Mg | 0.5 |
| Ni | 0.5 |
| Zn | 0.5 |
| Fe | 0.5 |
| Cd | 0.5 |
| As | 0.5 |
| Si | 1 |
| Al | 0.5 |
| Tl | 1 |
| Pb | 1 |
| S | 1 |
| Sn | 1.5 |
ఇండియం ఒక తెల్లని లోహం, చాలా మృదువైనది, చాలా సున్నితంగా మరియు సాగేది.కోల్డ్ weldability, మరియు ఇతర మెటల్ రాపిడి జోడించవచ్చు, ద్రవ ఇండియం అద్భుతమైన మొబిలిటీ.మెటల్ ఇండియం సాధారణ ఉష్ణోగ్రత వద్ద గాలి ద్వారా ఆక్సీకరణం చెందదు, ఇండియం సుమారు 100℃ వద్ద ఆక్సీకరణం చెందడం ప్రారంభమవుతుంది, (800 ℃ కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతల వద్ద), ఇండియం కాలిపోయి ఇండియమ్ ఆక్సైడ్ ఏర్పడుతుంది, ఇది నీలం-ఎరుపు మంటను కలిగి ఉంటుంది.ఇండియం మానవ శరీరానికి హానికరం కాదు, కానీ కరిగే సమ్మేళనాలు విషపూరితమైనవి.
వివరణ:
ఇండియం చాలా మృదువైన, సిల్వర్‌వైట్, ప్రకాశవంతమైన మెరుపుతో సాపేక్షంగా అరుదైన నిజమైన మెటల్.గాలియం వలె, ఇండియం గాజును తడి చేయగలదు.ఇతర లోహాలతో పోలిస్తే ఇండియం తక్కువ ద్రవీభవన స్థానం కలిగి ఉంటుంది.
లిక్విడ్ క్రిస్టల్ డిస్‌ప్లేలు మరియు టచ్‌స్క్రీన్‌లలో ఇండియమ్ టిన్ ఆక్సైడ్ నుండి పారదర్శక ఎలక్ట్రోడ్‌లను ఏర్పరచడం ఇండియమ్ యొక్క ప్రస్తుత ప్రాథమిక అప్లికేషన్, మరియు ఈ ఉపయోగం దాని గ్లోబల్ మైనింగ్ ఉత్పత్తిని ఎక్కువగా నిర్ణయిస్తుంది.ఇది లూబ్రికేటెడ్ పొరలను రూపొందించడానికి సన్నని-పొరలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.ఇది ముఖ్యంగా తక్కువ ద్రవీభవన స్థానం మిశ్రమాలను తయారు చేయడానికి కూడా ఉపయోగించబడుతుంది మరియు కొన్ని సీసం-రహిత టంకములలో ఒక భాగం.
అప్లికేషన్:
1.ఇది ఫ్లాట్ ప్యానెల్ డిస్‌ప్లే కోటింగ్, ఇన్ఫర్మేషన్ మెటీరియల్స్, హై టెంపరేచర్ సూపర్ కండక్టింగ్ మెటీరియల్స్, ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌ల కోసం ప్రత్యేక సోల్డర్‌లు, హై-పెర్ఫార్మెన్స్ అల్లాయ్‌లు, నేషనల్ డిఫెన్స్, మెడిసిన్, హై-ప్యూరిటీ రియాజెంట్‌లు మరియు అనేక ఇతర హైటెక్ ఫీల్డ్‌లలో ఉపయోగించబడుతుంది.
2.ఇది ప్రధానంగా బేరింగ్‌లను తయారు చేయడానికి మరియు అధిక స్వచ్ఛత కలిగిన ఇండియంను తీయడానికి ఉపయోగించబడుతుంది మరియు ఎలక్ట్రానిక్ పరిశ్రమ మరియు ఎలక్ట్రోప్లేటింగ్ పరిశ్రమలో కూడా ఉపయోగించబడుతుంది;
3.ఇది ప్రధానంగా లోహ పదార్థాల తుప్పు నిరోధకతను పెంచడానికి క్లాడింగ్ లేయర్‌గా (లేదా మిశ్రమంగా తయారు చేయబడుతుంది) మరియు ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది.
సంబంధిత ఉత్పత్తులు
-
చైనా ఫెర్రో మాలిబ్డినం ఫ్యాక్టరీ సరఫరా నాణ్యత L...
రసాయన కూర్పు FeMo కూర్పు (%) గ్రేడ్ Mo Si SPC Cu FeMo70 65-75 2 0.08 0.05 0.1 0.5 FeMo60-A 60-65 1 0.08 0.04 0.1 0.5 FeMo60-B 60-65 1.50-65 1.5005 60-65 2 0.15 0.05 0.15 1 FeMo55-A 55-60 1 0.1 0.08 0.15 0.5 FeMo55-B 55-60 1.5 0.15 0.1 0.2 0.5 ఉత్పత్తుల వివరణ ఫెర్రో మాలిబ్డినం స్టెల్ తయారీలో ప్రధానంగా మాలిబ్డినం 70కి జోడించబడుతుంది.మాలిబ్డే...
-
ఫెర్రో వెనాడియం
ఫెర్రోవనాడియం బ్రాండ్ కెమికల్ కంపోజిషన్స్ స్పెసిఫికేషన్ (%) VC Si PS Al Mn ≤ FeV40-A 38.0~45.0 0.60 2.0 0.08 0.06 1.5 — FeV40-B 38.0~45.0 FeV40-B 38.0~45.0 0.80 3.0-0.4.5 8.0~55.0 0.40 2.0 0.06 0.04 1.5 — FeV50-B 48.0 ~ 55.0 0.60 2.5 0.10 0.05 2.0 — FeV60-A 58.0 ~ 65.0 0.40 2.0 0.06 0.04 1.5 — FeV60-B 58.0 5. 2.0 ~ 60. 1
-
HSG ఫెర్రో టంగ్‌స్టన్ ధర ఫెర్రో వోల్ఫ్రామ్ అమ్మకానికి...
మేము అన్ని గ్రేడ్‌ల ఫెర్రో టంగ్‌స్టన్‌ని ఈ క్రింది విధంగా గ్రేడ్ FeW 8OW-A FeW80-B ఫ్యూ 80-CW 75%-80% 75%-80% 75%-80% C 0.1% గరిష్టంగా 0.3% గరిష్టంగా 0.6% గరిష్టంగా P 0.03% గరిష్టంగా సరఫరా చేస్తాము. 0.04% గరిష్టంగా 0.05% గరిష్టంగా 0.06% గరిష్టంగా 0.07% గరిష్టంగా 0.08% గరిష్ట SI 0.5% గరిష్టంగా 0.7% గరిష్టంగా 0.7% గరిష్ట MN 0.25% గరిష్టంగా 0.35% గరిష్టంగా 0.5% గరిష్టంగా SN 0.06% గరిష్ట గరిష్ట గరిష్ట గరిష్ట CU 0.1% గరిష్టంగా 0.12% గరిష్టంగా 0.15% గరిష్టంగా 0.06% గరిష్టంగా 0.08% గరిష్టంగా 0.10% గరిష్టంగా ద్వి 0.05% గరిష్టంగా 0.05% గరిష్టంగా 0.0...
